Seto 1.60 fotohromiskā objektīva shmc

1) Kas ir griešanās pārklājums?

Spin pārklājums ir procedūra, ko izmanto, lai novietotu vienotas plānas plēves uz plakaniem pamatnes. Parasti substrāta centrā tiek uzklāts neliels daudzums pārklājuma materiāla, kas vai nu vērpj ar nelielu ātrumu, vai arī vispār negriežas. Pēc tam substrātu pagriež ar ātrumu līdz 10 000 apgr./min., Lai izkliedētu pārklājuma materiālu ar centrbēdzes spēku. Mašīnu, ko izmanto spin pārklājumam, sauc par spin aparātu vai vienkārši vērpēju.
Rotācija tiek turpināta, kamēr šķidrums nokrīt no substrāta malām, līdz tiek sasniegts vēlamais plēves biezums. Lietotais šķīdinātājs parasti ir gaistošs un vienlaikus iztvaiko. Jo lielāks ir vērpšanas leņķiskais ātrums, jo plānāka ir plēve. Filmas biezums ir atkarīgs arī no šķīduma viskozitātes un koncentrācijas, kā arī šķīdinātāja. [2] Emslie et al., Un to paplašināja daudzi nākamie autori (ieskaitot Wilson et al., [4], kas pētīja izplatīšanās ātrumu spin pārklājumā; un Danglad-Flores et al., Pagarinājusi izplatīšanās ātrumu spin pārklājumā; un Danglad-Flores et al. [5], kurš atrada universālu aprakstu, lai prognozētu nogulsnēto plēves biezumu).
Spin pārklājumu plaši izmanto funkcionālā oksīda slāņu mikrofabrikācijā uz stikla vai viena kristāla substrātiem, izmantojot sol-gel prekursorus, kur to var izmantot, lai izveidotu vienveidīgas plānas plēves ar nanomēroga biezumu. [6] To intensīvi izmanto fotolitogrāfijā, lai nogulsnētu fotorezistra slāņus apmēram 1 mikrometru biezumā. Fotoresiste parasti tiek savērpta ar ātrumu no 20 līdz 80 apgriezieniem sekundē 30 līdz 60 sekundes. To plaši izmanto arī plakano fotonisko struktūru izgatavošanai no polimēriem.
Viena no priekšrocībām, kas vērsta uz plānām plēvēm, ir plēves biezuma vienveidība. Pašliešanas dēļ biezums neatšķiras vairāk kā 1%. Tomēr polimēru un fotorezististu biezāku plēvju apvalks var izraisīt salīdzinoši lielas malas krelles, kuru planarizācijai ir fiziskas robežas.